窒化ホウ素セラミック角溝プレート は、高純度の窒化ホウ素(BN)を高温焼結またはホットプレス加工した高性能特殊セラミック材料製品です。窒化ホウ素セラミックスは、耐高温性、熱伝導性、電気絶縁性、化学的安定性、機械的加工性に優れ、半導体、冶金、電子、航空宇宙などのハイエンド分野に最適な材料です。.
製品特性
-高温耐性： 1000℃以上の環境でも安定して動作し、短期的には1800℃まで耐えることができる。.
-高い熱伝導性： 高い熱伝導率（約30～60W/m・K）により、効率的な放熱を実現できる。.
-優れた電気絶縁性： 絶縁耐力が高く、高電圧・高周波の電子機器に適している。.
-化学的不活性： 酸やアルカリの腐食に強く、ほとんどの金属や溶融金属とは反応しない。.
-摩擦係数が低い： 自己潤滑性に優れ、機械摩耗を低減。.
-機械加工性： カスタマイズのニーズに応えるため、複雑な形状に精密加工できる。.
製品用途
窒化ホウ素セラミック角溝プレートは、そのユニークな特性により、以下の分野で広く使用されています：
- 半導体産業
-ウェハプロセス、半導体パッケージング、LEDエピタキシャルウェハ成長などに使用され、高温耐性および汚染防止キャリア基板として使用される。.
-CVD（化学気相成長）装置やMOCVD（有機金属化学気相成長）装置では、反応室の断熱材や伝導部品の役割を果たす。. - 冶金産業
-金属の溶解、鋳造、熱処理に使用され、るつぼ、流路、金属液の汚染を防ぐ保護板として使用される。.
-アルミニウム、マグネシウム、銅などの非鉄金属加工の高温金型やフローガイド部品として使用。. - 電子産業
-大電力電子機器の放熱基板として、機器の安定性と寿命を向上させる。.
-マイクロ波管やレーダーシステムなどの高周波電子機器に使用され、信号損失を低減する。. - 航空宇宙および原子力産業
-高温センサー、ロケットノズル、原子炉遮蔽材などに使用され、過酷な環境下での信頼性を確保。. - 研究・実験設備
-高温炉、真空装置、プラズマ実験装置などに使用され、安定した高温耐性と絶縁サポートを提供。.
カスタマイズ・サービス
私たちは、窒化ホウ素セラミック正方形溝プレートのための専門のカスタマイズされたサービスを提供し、さまざまな業界の特別なニーズを満たすために
- サイズのカスタマイズ
-お客様のニーズに応じて、長さ、幅、深さの異なる角溝プレートをカスタマイズし、非標準サイズの設計に対応します。. - 形状と構造の最適化
-シングルスロット、マルチスロット、イレギュラースロットなどの構造を加工でき、さまざまな設備要件に対応。.
-製品の性能を高めるための表面研磨やコーティング処理（酸化防止コーティングなど）をサポートする。. - パフォーマンスの最適化
-窒化ホウ素の純度（99%以上）と焼結プロセスを調整し、耐熱性や熱伝導性を向上させる。.
-他のセラミック材料（AlN、SiCなど）と複合化し、機械的強度や特定の機能を高める。. - ラピッドプロトタイピングと大量生産
-研究開発サイクルを短縮するための小規模試作サービスの提供。.
-安定した納期と品質を確保するため、大規模生産をサポートする。.
製品が解決できる問題
- 高温環境下での材料破損
-従来の金属や一般的なセラミックスは高温で酸化したり変形したりしやすいが、窒化ホウ素セラミックスは長期間安定して機能し、機器の寿命を延ばすことができる。. - 放熱の難しさ
-高出力の電子機器は過熱しやすく、損傷を受けやすい。窒化ホウ素の高い熱伝導性は、熱を効果的に放散し、機器の信頼性を向上させることができる。. - 金属製錬による汚染
-通常の耐火物は溶融金属を汚染する可能性があるが、窒化ホウ素の化学的不活性は金属の純度を保証する。. - 精密加工の要件
-窒化ホウ素セラミックスは機械加工が容易で、高精度機器の要求に応える複雑な形状にすることができる。.
窒化ホウ素セラミック角溝板はハイエンドの製造業と科学研究分野の重要な材料です。私達は高性能の標準プロダクトおよび個人化されたカスタマイズされた解決を顧客に与えることに努力しています。詳細やサンプルの入手については、お問い合わせください！
ブルーズ・セラミックス は、アルミナセラミックス、ジルコニアセラミックス、窒化ケイ素セラミックス、窒化アルミニウムセラミックス、炭化ケイ素セラミックス、炭化ホウ素セラミックス、バイオセラミックス、マシナブルセラミックスなど、高品質の石英ガラスを幅広く供給・販売しています。様々なセラミック製品のカスタマイズ要求にもお応えします。
タグ 炭化ホウ素セラミックス
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