팬 반도체 산화물 세라믹

팬 반도체 산화물 세라믹은 팬 반도체 분야에서 널리 사용되는 고성능 세라믹 소재의 일종으로 주로 알루미나 세라믹, 지르코니아 세라믹 등이 있습니다. 이러한 산화물 세라믹은 다양한 우수한 특성을 가지고 있어 팬 반도체 산업에서 없어서는 안 될 핵심 소재입니다.

（1） 알루미늄 산화물 세라믹
알루미나 세라믹은 널리 사용되는 고급 세라믹 소재로 높은 경도, 높은 내마모성, 내식성, 우수한 전기 절연성, 높은 기계적 강도가 특징입니다. 고순도, 우수한 화학적 안정성, 높은 저항성을 가지고 있으며 반도체 제조 공정 중 웨이퍼의 오염을 효과적으로 방지할 수 있습니다. 또한 알루미나 세라믹은 고온 저항성과 낮은 열전도율의 특성을 가지고 있어 단열재로 사용할 수 있습니다.
（2） 지르코니아 세라믹
지르코니아 세라믹은 파인 세라믹 중 상온에서 인성과 강도가 가장 높은 세라믹입니다. 내마모성이 우수하고 기계적 강도가 높아 가이드 롤러, 내마모 부품 등 슬라이딩 부품을 제조하는 데 사용할 수 있습니다. 일반 반도체 분야에서는 세라믹 클리버와 같은 핵심 부품을 제조하는 데 지르코니아 세라믹을 사용할 수 있습니다.

애플리케이션
범 반도체 산화물 세라믹은 범 반도체 산업의 여러 측면에서 중요한 역할을 하며, 다음은 주요 응용 분야 중 일부입니다:
（1） 반도체 식각 장비
반도체 에칭 장비에서 에칭 챔버의 재료는 웨이퍼 오염에 큰 영향을 미칩니다. 고순도 알루미나 세라믹은 에칭 챔버 및 내부 부품의 보호 재료로 널리 사용되며, 이는 에칭 공정의 안정성과 웨이퍼 수율을 효과적으로 향상시킬 수 있습니다. 또한 플라즈마 장비의 가스 노즐, 가스 분배판 및 웨이퍼 고정 링은 종종 알루미나 세라믹으로 만들어집니다.
（2） 웨이퍼 연마 공정
웨이퍼 폴리싱 공정에서 알루미나 세라믹은 폴리싱 플레이트, 폴리싱 패드 보정 플랫폼, 진공 흡입 컵 및 기타 구성 요소에 널리 사용될 수 있습니다. 이러한 부품에는 고순도, 높은 화학적 내구성, 우수한 표면 형상 및 거칠기 제어가 필요하며 알루미나 세라믹은 이러한 까다로운 요구 사항을 충족할 수 있습니다. 예를 들어 알루미나 세라믹으로 만든 웨이퍼 연마 디스크는 연마 중 웨이퍼의 손상이나 오염을 방지하고 금속 이온의 유입을 줄이며 웨이퍼의 활용률을 향상시킬 수 있습니다.
（3） 기타 애플리케이션
알루미나 세라믹은 반도체 장비의 작업대, 플라즈마 쉴드/링과 같은 부품을 제조하는 데에도 사용할 수 있습니다. 지르코니아 세라믹은 진공 환경에서 웨이퍼를 운반하는 세라믹 로봇 팔을 제조하는 데 사용할 수 있습니다.

맞춤형 서비스
부품에 대한 범반도체 산업의 높은 정밀도와 성능 요구 사항으로 인해 범반도체 산화물 세라믹에 대한 맞춤형 서비스가 매우 중요합니다. 많은 전문 세라믹 가공 기업은 고객의 특정 요구에 따라 분말 과립 성형 소결 정밀 가공 테스트 세척에서 원스톱 맞춤형 서비스를 제공할 수 있습니다. 이러한 기업은 제품의 품질과 정확성을 보장 할 수있는 고급 처리 장비와 완벽한 테스트 장비를 보유하고 있습니다. 예를 들어, 동관 누오이 정밀 세라믹 기술 유한 회사는 분말 가공, 성형, 소결 및 정밀 가공과 같은 여러 공정을 포함하는 알루미나 세라믹 부품에 대한 맞춤형 가공 서비스를 제공 할 수 있습니다. 또한 일부 회사는 반도체 생산 및 청소 경험도 보유하고 있어 일반 반도체 산업의 요구를 더 잘 충족할 수 있습니다.

팬 반도체 산화물 세라믹은 뛰어난 성능으로 인해 팬 반도체 분야에서 대체할 수 없는 역할을 합니다. 전문적인 맞춤형 서비스는 다양한 고객의 개별화된 요구를 충족하고 반도체 산업 발전에 강력한 지원을 제공할 수 있습니다.

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